Chemopad NS

Chemopad NS è realizzato in poliuretano tamponato con vuoti microscopici, laminato su un substrato in tessuto non tessuto. La struttura porosa aperta del pad consente di utilizzare il materiale per la lucidatura finale dei wafer di semiconduttori ad alta, media e bassa pressione, riducendo la necessità di cambiare i pad durante il processo di lucidatura e aumentando così la produttività. Chemopad NS ha un’ottima resistenza chimica e offre un’eccellente finitura superficiale.

Materiale

  • Poliuretano lucido
Informazioni

  • Spessore: 0,90 mm
  • Durezza così com’è: 68° Shore A
  • Densità: 0,42 g/cm³.
  • Compressibilità: 20

Disponibile con adesivi PSA EB e supporti magnetici HS o OviO.

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Informazioni sul prodotto

Durata di conservazione: 24 mesi dalla data di produzione.

Imballaggio: I nostri tamponi per lucidatura sono confezionati in sacchetti sigillati da 10 pezzi per garantire che rimangano puliti durante il trasporto. I sacchetti sono imballati in scatole per garantire che i tamponi siano distesi per evitare che il supporto si sgualcisca o che il rivestimento si stacchi prima dell’uso.

Supporti: i nostri pad di lucidatura sono disponibili con adesivi PSA HS e supporti magnetici EB o OviO. Per maggiori informazioni sui nostri supporti, consulta la scheda seguente.

Applicazioni

  • Acciaio
  • Acciaio inox
  • Titanio
  • Alluminio
  • Metalli preziosi
  • Ghisa
  • Rame/ottone
  • Quarzo
  • Litio tantalio
  • Acrilici
  • Policarbonato
  • Epossidica
  • Silicio
  • Ossido di silicio
  • Germanio
  • Nitruro di gallio
  • Arseniuro di gallio
  • Fosfuro di indio
  • Gallato di neodimio
  • Tellururo di zinco
  • Niobato di litio
  • Seleniuro di zinco

HS

Il nostro adesivo HS è composto da uno speciale adesivo a base di polimeri sul lato di laminazione e da un adesivo acrilico sul lato di montaggio con un rivestimento in poliestere.
HS offre un'eccellente adesione al panno di lucidatura e un'ottima stabilità dimensionale. Aderisce con forza al foglio quando viene applicato, ma è facile da rimuovere al termine del processo di lucidatura. Un supporto più spesso facilita l'applicazione di panni sottili.
NGL Polishing Technology ha sviluppato HS come adesivo unico nel suo genere, progettato per essere utilizzato con la maggior parte degli impasti conosciuti nel processo di lucidatura. È resistente all'acqua, alle miscele di acqua e glicole, all'alcol, alle miscele di alcol e glicole, all'olio (distillati di petrolio), alle emulsioni di olio in acqua, alla candeggina, ecc.

EB

Il nostro adesivo EB è composto da un adesivo a base di gomma altamente adesivo e pelabile sul lato di laminazione, da un adesivo acrilico rimovibile sul lato di montaggio e da un liner di carta siliconata. I vantaggi dell'adesivo EB sono una perfetta adesione al panno di lucidatura e un'ottima adesione alla lastra durante l'applicazione.
EB è un potente adesivo progettato per il montaggio su tutti i panni di lucidatura che richiedono un'eccellente laminazione. È inoltre resistente all'alcol e agli impasti a base d'acqua.

OviO

Il foglio flessibile e la piastra magnetica di OviO facilitano la rimozione e l'allineamento del disco, riducendo notevolmente i tempi di inattività. Il supporto OviO permette di riutilizzare il disco di lucidatura fino a quando non è consumato e non presenta i bordi taglienti che si trovano solitamente sui supporti in metallo duro. Di conseguenza, il supporto magnetico OviO aumenta la sicurezza e riduce i tagli alle dita durante il montaggio del disco di lucidatura.
OviO è progettato per essere utilizzato come supporto per tutti i nostri dischi di lucidatura.

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